当社の歴史は、創業者の越山照次が1950年、愛知県名古屋市に不二見研磨材工業所を設立したことに始まります。光学機器メーカーから依頼を受け、照準器用レンズなどの光学ガラス製品を磨く研磨材の研究開発に着手し、商品化に成功すると国内初となる精密人造研磨材の生産を開始しました。1953年に法人化し、不二見研磨材工業株式会社を設立してからは、光学機器メーカー以外の業界への展開を見据えた研磨材の品質向上に努め、当時精密機械の精度向上のために、粒度が細く高品質な研削砥石が求められていた砥石業界へも販路を広げていきました。

1957年、世界初のトランジスタラジオの量産化に成功していた電気機器メーカーより依頼を受け、トランジスタに使われるゲルマニウムウェハー（半導体基板）の精密加工に適した研磨材FOの供給を開始しました。
これが現在においても当社の主力事業である半導体業界へ進出するきっかけになりました。その後、半導体基板がゲルマニウムウェハーからシリコンウェハーに移り変わる中、従来の研磨材ではシリコンウェハーの加工時に、加工変質層の発生や原子レベルでの金属不純物の混入などの問題が生じていました。当社では、シリコンウェハーの加工に最適な砥粒と、研磨を促進・補助する化学薬品を組み合せた、研磨スラリーの研究開発に着手し、1967年に国産初の研磨スラリーとして、シリコンウェハー用研磨材GLANZOXの開発・商品化に成功しました。その後、研磨性能の更なる向上に向けた研究と新製品開発を重ね、現在に至るまでシリコンウェハー用研磨材において他を圧倒する高い世界シェアを獲得・維持しています。

1969年にフジミとして初の海外視察となる米国視察以降、「いつかは米国市場へ製品を展開していきたい」という夢を持ち、継続的に米国を訪問し、ビジネスチャンスを窺っていました。1984年に米国での事業展開を充実させるため、米国イリノイ州に販売拠点を設立、その頃より「日本一から世界一の研磨材メーカーになる」という大きな目標を掲げ、海外の有力メーカーとの競争に打ち勝つための競争力を磨いていきました。1988年に世界最大の半導体メーカーの拠点があるオレゴン州に製造拠点を設立するとともに開発・販売機能を整備していきました。これが現在の半導体CMP分野の事業拡大の礎にもなっています。また、1995年にはハードディスクメーカーが集積するマレーシアに、フジミマイクロテクノロジーを設立し、製造・販売機能を整備、ハードディスク用研磨材市場での地位を確固たるものとしています。

半導体メーカー各社が半導体製造にCMPプロセスを採用しはじめた1990年代前半に、当社は半導体デバイス用CMP研磨材の研究開発に着手し、1995年にPLANERLITEを製品化しました。販売開始後すぐに売上は伸びなかったものの、徐々にお客様から支持を得て日本・米国・アジア各国の半導体メーカーで採用されていきました。2000年には岐阜県各務原市に半導体関連のお客様と同レベルの最新設備を導入した研究開発センターを稼働させ、当社の米国子会社と連携することで、製品開発を加速しました。そして、2002年に世界最大手の半導体メーカーである米国インテル社からPQS賞（※）を受賞、2004年には同社より最高位のSCQI賞（※）を受賞します。これらの受賞により、半導体業界における当社の認知度が向上し、CMP事業の拡大につながっていきました。その後、半導体産業の中心がアジアへ移行する中で、2005年から2008年にかけ台湾・中国・韓国に駐在事務所を開設し、さらには、2011年に台湾に開発・製造・販売機能を備えたフジミ台湾を設立、2013年には韓国での販売サポートのためフジミ韓国を設立する等、海外拠点をお客様の近くに戦略的に設置することで、お客様のニーズにより早く、的確に対応することが可能になりました。その結果、最先端半導体分野で当社製品が着実に採用されるようになり、2016年3月期より2023年3月期にかけて、最高売上高を8期連続で更新中です。

当社では、研磨材分野で培った技術を基盤に、新たな事業分野に積極的にチャレンジしてきました。2000年に立ち上げた溶射材事業は、鉄鋼、航空機部品および液晶・半導体製造装置等さまざまな製品や製造設備の長寿命化、高機能化を支える事業として成長し、さらに溶射材で培った技術は、現在金属3Ｄプリンター向け超硬材料の開発など、次なる新規テーマへのチャレンジにも引き継がれています。また、2012年には非半導体分野における新規事業の創出・育成を目的に新規事業創出プロジェクトが展開され、その活動から生まれた電子機器の金属筐体向け製品は、リーマン・ショック後の半導体分野の回復が遅れた厳しい時期において、収益に大きく貢献しました。このビジネスで得られた経験を活かし、現在ではさまざまな業界のお客様から寄せられる新たな表面創成ニーズに対し、研磨材のみならず研磨装置や周辺消耗材の提案・提供を含めたトータルソリューションで応えています。2015年には、当社の基盤技術強化と5年先、10年先を見据えた新規事業機会の探索を目的に先端技術研究所を設立しました。現在では、研磨材メーカーからパウダー&サーフェスカンパニーへの飛躍を目指し、展示会や学会、大学、公的な研究機関等との連携や共同開発を活発化し、新規事業テーマ探索に努めるとともに、将来の事業に必要な技術を持つベンチャー企業や、シナジー効果を見込める企業とのアライアンス等の手法で外部技術を取り込むことも視野に入れ、新規技術、新規事業創出の実現に向けた活動を推進しています。